美國二百餘所大學、研究機構及大公司、商會，共同支持一項新近提出的「美國職場改進及工作保護法案」，增加兩萬個H1B非移民短期工作簽證配額。
據美國《世界日報》報導，美國的H1B非移民短期工作簽證的年度配額，自去年10月1日起已由每年19.5萬名，降至6.5萬名。而這項法案將使獲有美國大學碩士及以上學歷的H1B簽證申請人，不受6.5萬名配額的限制。不過把這些高學歷的配額，限制在兩萬名。
「美國職場改進及工作保護法案」，是德州聯邦眾議員史密斯所提，支持該案的學商界最近致函國會兩院議員，希望通過此案，以解決H1B名額短缺的問題。
簽署支持法案的公司包括，思科、甲骨文、英特爾、Hal-liburton、Hewlett-Packard(本網註：惠普公司)、Sun Microsystems(本網註：太陽微系統公司)以及美國商會。
據悉，「美國職場改進及工作保護法案」將加強懲罰H1B及L1簽證的造假事件。由於H1B短缺，許多僱用外籍勞工的美國企業，改而申請沒有配額限制的L1簽證。L1簽證主要是給跨國企業經理人才使用，而具「特別知識」者也可適用，因此方便了僱主及外籍勞工。
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