通用电气又被窃取商业机密 美华裔工程师认罪(图)


美国通用电气(GE)全球研究部一名华裔工程师,周四(5月28日)在纽约北区联邦法庭承认窃取该公司商业机密罪名。(图片来源:Getty Images)

【看中国2020年5月31日讯】(看中国记者文可伊综合报导)美国通用电气(GE)全球研究部一名华裔工程师,周四(5月28日)在纽约北区联邦法庭承认窃取该公司商业机密罪名,将面临最高10年的监禁、最高25万美元罚款。

据The Daily Gazette报导,有关42岁的半导体工程师隋杨(Yang Sui,人名音译),在庭上承认于2015年至2017年期间,从GE窃取了多个与“碳化矽”(MOSFET)的研究、设计和制造相关的电子文件。

此案由纽约北区联邦法院法官Mae A.D’Agostino主审,他预计在今年9月22日对隋杨判刑。

据知,有关案件是由美国联邦调查局(FBI)展开调查,后由联邦助理检察官和国家安全部审判律师起诉。

一旦“窃取商业机密罪”罪名成立,隋杨可能面临最高10年的监禁、最高25万美元或犯罪所得金钱收益两倍的罚款之外,以及刑满后最高三年监督释放。

“碳化矽”(MOSFET)是一种金属氧化物半导体场效应晶体管,可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。

报导引述起诉书,隋杨窃取的“碳化硅MOSFET”是GE用于各种零件和产品,包括航空设备和风力涡轮机。

据《世界日报》转述,有媒体在领英网(LinkedIn)搜寻到“Yang Sui”的个人资料,根据个人页面信息,隋杨在哈尔滨一所高中毕业后,1996年考上清华大学攻读材料科学,过后来到美国的爱荷华州立大学(Iowa State University)和普度大学(Purdue University)攻读硕士和博士学位。

隋杨本身填写在修读博士期间,曾出任普度大学中国学生学者联谊会副会长;从2010年10月至2018年1月,他在位于纽约上州尼什卡纳(Niskayuna)的通用集团全球研发中心担任半导体装置工程师。

通用电气并非首次被旗下的华裔工程师窃取商业机密;隋杨案件是该公司近年来被揭露的商业秘密盗窃案之一。

在2014年,来自中国的电脑软件工程师谢军(Jun Xie,人名音译),被控盗窃GE旗下医疗集团(GE Healthcare)的商业机密。

用H-1B工作签证在美国工作谢军,当时窃取了GE Healthcare 1.4 GB或240万笔信息文件,包括工程设计、产品测试信息和业务战略,私自发送给中国的亲戚。谢军被定罪后即被递解出境。

2018年,相信出身于中共推动的“千人计划”专才的工程师郑小清(Xiaoqing Zheng),也是在纽约上州尼什卡纳镇被捕。

案发时,郑小清在GE动力及水能(GE Power&Water)服务期间,用“隐写术”窃取含有天然气与蒸气涡轮科技设计模型、工程图及其它细节的电子档,并将这些档案寄给位于中国的商人张照曦(Zhaoxi Zhang,人名音译)。

美国联邦调查局过后发现郑小清拥有中美双重国籍。众所周知,中国是不允许公民拥有双重国籍,郑小清为何在取得美籍后,还可以继续保留中国公民身份的原因,目前仍然未知。

郑小清案件仍在审理中,纽约北区联邦法庭定于今年9月21日遴选陪审团审理此案。

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