晶元產業遭重擊後李強要求加快核心技術攻關(圖)

2024-01-04 09:25 作者:文龍

晶元產業遭重擊後，李強要求加快核心技術攻關。（圖片來源：Adobe Stock）

【看中國2024年1月4日訊】（看中國記者文龍綜合報導）美國啟動對中國晶元供應鏈調查，荷蘭阿斯麥（ASML）取消部分光刻機出口，中國晶元產業再遭重擊。中國總理李強1月3日在湖北省調研，瞭解半導體業發展，要求核心技術攻關實現更大突破。

李強要求在關鍵核心技術攻關上實現更大突破

據中國官媒央視報導，中國總理李強1月2日至3日在湖北省調研。

李強表示，「要全面落實中央經濟工作會議部署.....推動今年經濟工作開好局起好步。」

在湖北省會武漢市，李強先後來到長江存儲、華工激光公司參觀生產線，深入瞭解快閃記憶體晶元、激光產業發展等情況。

李強強調，「要進一步發揮企業科技創新主體作用，把科研成果更多更好地轉化為現實生產力」；「在關鍵核心技術攻關上實現更大突破，為國家高水平科技自立自強多作貢獻。」

中國晶元產業再遭重擊荷蘭ASML取消部分光刻機出口

李強希望關鍵核心技術攻關上實現更大突破之際，中國晶元產業再遭重擊，荷蘭阿斯麥（ASML）取消部分光刻機出口。

阿斯麥於荷蘭當地時間1月1日晚間在官網發布聲明表示其NXT：2050i及NXT：2100i光刻系統的出口許可證已被荷蘭政府部分撤銷，將對個別中國客戶產生影響。

至於上述兩款產品的出口許可被撤銷將會對該公司的中國客戶產生怎樣的影響，1月2日，阿斯麥回應中國媒體的置評請求稱，許可證的部分撤銷，影響了向中國個別客戶發運相關設備。

阿斯麥官網顯示，該公司主流的DUV光刻系統產品有三款，分別是TWINSCAN NXT:1980Di（以下簡稱「1980Di」）、TWINSCAN NXT:2000i（以下簡稱「2000i」）和TWINSCAN NXT:2050i（以下簡稱「2050i」）。2024年1月1日荷蘭出口管制新規生效後，在所有的DUV光刻系統中，阿斯麥只能向中國大陸地區出口1980Di產品。

根據阿斯麥官網介紹信息，1980Di的單次曝光解析度為大於等於38nm（納米）。也就是說，晶圓廠通過1980Di光刻系統的單次曝光，僅能製造出不小於38nm製程的晶元產品。不過儘管晶圓廠在理論上可以通過多次曝光技術利用該型號的光刻機製造出更小製程的晶元產品，但是這也意味著更加複雜的步驟、更高的成本和更低的良率。

在聲明中該公司還表示，美國政府在近期與阿斯麥的溝通中，對其出口管制的適用範圍和影響進行了進一步澄清。美國2023年10月17日發布最新出口管制規則，限制向個別先進晶元製造晶圓廠發運特定型號的中高端DUV浸潤式光刻機。該公司預計此次出口許可證撤銷及最新的美國出口管制限制不會對2023年的財務情況產生重大影響。

在1月2日中國外交部記者會上，有記者就阿斯麥停止對華出口部分光刻機提問。

中國外交部發言人汪文斌對此表示，中方一貫反對美國泛化國家安全概念，以各種藉口脅迫其它國家搞對華科技封鎖。敦促荷方，秉持客觀公正立場和市場原則，尊重契約精神，以實際行動維護中荷兩國和雙方企業的共同利益。

荷蘭外交部發言人1月2日表示，荷蘭政府將基於國家安全理由逐案審查出口許可證申請。

阿斯麥是一間位於荷蘭費爾德霍芬的半導體設備製造商。公司同時在歐洲和美國NASDAQ上市。全球員工有40,000多名。在世界16個國家和地區提供服務。阿斯麥公司的主力產品是用於生產大規模集成電路的核心設備光刻機。其在中國的客戶包括中芯國際、上海華虹半導體、合肥晶合半導體、武漢新芯和紹興中芯等。