阿斯麦CEO戳北京痛点：造不出芯片光刻机(图)

光刻机生产巨头阿斯麦（ASML）。（图片来源：Getty Images）

【看中国2022年1月21日讯】（看中国记者文龙综合报导）北京当局一直希望拥有制造芯片必备的高端光刻机，但光刻机生产巨头阿斯麦（ASML）方面道破真机。中国年度芯片进口额4000亿美元，举国之力40年发展半导体技术的计划也已失败。

据荷兰《人民报》和《电讯报》1月20日报道，全球芯片短缺已经持续了一年多，因此，对光刻机制造商阿斯麦（ASML）的设备需求比以往任何时候都大，直接其影响业绩。阿斯麦发布了其业绩报告，阿斯麦2021年总营收为186亿欧元，同比增长33%；净利润为59亿欧元，同比增长66%；毛利率为53%，比上年同期提高4个百分点。

阿斯麦的2021年营收中有63亿欧元来自42个EUV系统（极紫外光刻机）订单，比上年多11个。英特尔（Intel）公司从阿斯麦订购了价值71亿欧元的设备，其中26亿欧元用于购买EUV。

该公司计划在今年年底前，将员工人数从目前的3.15万人增加到3.5万人。为提高对客户的支持，将选择缩短周期以运送更多设备，主要通过快速发货流程跳过工厂的一些测试，并在客户现场进行最终测试和正式验收。

阿斯麦预计2022年的营业额将增长20%，届时营业额将超过220亿欧元。

阿斯麦CEO温彼得（Peter Wennink）对《路透社》表示，中国不太可能独立制造出顶尖的光刻机，因为阿斯麦依赖于不懈的创新，以及整合只有从非中国供应商处才能获得的零部件，但“他们（中国）肯定会尝试的”。

光刻是芯片制造的核心环节，也是研发难度最大的半导体设备。目前，阿斯麦基本垄断着最顶尖的光刻机市场。

温彼得同时还透露，阿斯麦尚未获得向中国大陆出口最先进光刻机的许可，但一些生产成熟制程的光刻机出口并不受限制。

据业内人士介绍，光刻机研发难点在于曝光光源、对准系统和透光镜头等技术的整合，以及庞大的研发资金投入。目前，中国技术领先的光刻机厂家是上海微电子，可以生产90/65nm（纳米）制造工艺的光刻机。

过去几年，阿斯麦一直在研发高数值孔径（0.55 NA）EUV光刻机，具有更高的分辨率，可以使芯片面积缩小1.7倍，晶体管密度增加2.9倍。与目前的0.33 NA EUV光刻机相比，0.55 NA光刻机可以显著提高良率、降低成本和缩短生产周期。0.55 NA光刻机的每台售价约为3亿美元，比0.33 NA光刻机售价高出一倍。

目前，台积电等生产7nm-5nm制程的芯片采用的都是0.33 NA EUV光刻机，而第一代0.55 NA光刻机预计2023年上市。

英特尔早在2018年就率先向阿斯麦下单第一代0.55 NA EUV光刻机，该公司也有望成为首个高数值孔径EUV光刻机的使用者，并将其用于3nm及以下制程。

从上述数据可以看出，上海微电子的技术和国际水平差距十分巨大。

中国自2018年以来，每年仅芯片进口这一项所花费的金额就超过3000亿美元，成为中国进口金额最大的单一产品。2018年花费3121亿美元，2019年花费3055亿美元，2020年花费高达3500亿美元。

2021年中国芯片进口金额再创新高，中国工信部的报告预计进口金额将超过4000亿美元。主要有二大原因，包括全球芯片荒，导致芯片价格上涨；以及中美贸易战的延续，美国出口管制更加严格，促使许多中国厂商开始大量囤积手机、汽车等各种芯片。

“天钧政经”团队分析指出，从日常生活的手机、家用电器，到各行各业的机械、汽车，再到高超音速洲际弹道导弹、卫星、战斗机等，无一不依赖这小小的芯片。美国的制裁导致华为等北京当局重点扶持的公司和军工行业均遭重创，其短板正是没有高端芯片的技术。

“天钧政经”强调，中国芯片是因为才开始发展不久而导致处处落后其它国家？其实不然，1982年10月4日，中国国务院成立了国务院电子计算机和大规模集成电路领导小组。之后该小组虽然历经改名与合并，但是其职能一直存在。现在的名字是中央网络安全和信息化委员会，主任是习近平，副主任是李克强、王沪宁。

40年来，尽管北京当局对芯片很重视，但国产芯片和发达国家比较，仍然处于相对落后的状态。中国所需芯片80%左右还得依赖进口，尤其是高端芯片，在中国更是十分稀缺。在全球芯片产业链上，中国处在中下游的地位。上游的高端技术、关键设备和相关专利中国都不曾拥有。

并且，以千亿级投资的武汉弘芯为代表的等多个芯片项目“烂尾”，更令人唏嘘不已。

(文章仅代表作者个人立场和观点)